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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:
  • 產(chǎn)品廠商:泰諾
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀兩組鎢舟蒸發(fā)源*高可達(dá)3000℃,可實現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍,該多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀分采用觸控屏和按鈕面板相結(jié)合的設(shè)計,真空系統(tǒng)、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作。
詳情介紹:

本設(shè)備為多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀,設(shè)備采用前開門式真空腔體設(shè)計,腔體空間大,可拓展性強(qiáng),能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內(nèi)配有上置樣品臺,可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉(zhuǎn)、加熱及升降,所有操作均通過觸控屏集成控制。設(shè)備的真空泵組為兩級式真空系統(tǒng),由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組,可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環(huán)境;真空系統(tǒng)內(nèi)含有完善的氣動閥系統(tǒng),用戶可通過觸控屏進(jìn)行一鍵式操作實現(xiàn)抽取真空、不停機(jī)取放樣、完全停機(jī)等操作。

本設(shè)備的蒸發(fā)源共兩組,采取鎢舟蒸發(fā)源,水冷式銅電極,可*大支持300A的大電流,加熱溫度*高可達(dá)3000℃,可實現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍。本設(shè)備采用一體化設(shè)計,腔體和電控部分左右分置,實現(xiàn)了水電分離,有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結(jié)合的設(shè)計,真空系統(tǒng)、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作,通電蒸發(fā)、膜厚控制等通過面板獨(dú)立操作,在盡可能方便用戶的同時規(guī)避了誤操作的可能。該設(shè)備設(shè)計完善性能優(yōu)越,是實驗室高精度蒸發(fā)鍍膜試驗的必備之選。


名稱
多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀
特點


  • 蒸發(fā)源共兩組,
  • 采取鎢舟蒸發(fā)源,加熱溫度*高可達(dá)3000℃,可實現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍
  • 腔體和電控部分左右分置,實現(xiàn)了水電分離
  • 真空系統(tǒng)、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作
  • 通電蒸發(fā)、膜厚控制等通過面板獨(dú)立操作


術(shù)參數(shù)
  1. 樣品臺 *大支持φ150mm樣品 高度 上下70mm可調(diào)
  2. 蒸發(fā)源: 鎢舟x2 
  3. 真空腔體: 腔體材料 304不銹鋼,尺寸 φ300x400mm 觀察窗 前置φ100mm含遮光片,開啟方式 前開門式
  4. 膜厚控制晶振式膜厚測量儀,可選多通道膜厚控制儀
  5. 真空系統(tǒng): 前級泵 雙極旋片 抽氣接口 KF16
  6. 次級泵 渦輪分子泵 抽氣接口 CF160
  7. 真空測量 電阻+電離 復(fù)合真空規(guī)
  8.                  排氣速率 機(jī)械泵1.1L/s, 分子泵 600L/s; 抽氣速率 旋片泵:1.1L/S 
  9. 極限真空 1.0E-5Pa
  10.   供電電源 AC 220V 50/60Hz
  11. 流量計一路質(zhì)量流量計 500sccm Ar氣
  12. 控制系統(tǒng): PLC自動控制
  13. 操作界面:觸控屏+操作面板
規(guī)格
供電電壓 AC380V,50Hz
整機(jī)功率 5kW 整機(jī)重量 350kg
整機(jī)尺寸 1000mm X 800mm X 1500mm