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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:?jiǎn)伟兄绷鞔趴貫R射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號(hào):TN-MSP300S-DC
  • 產(chǎn)品廠商:泰諾
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹:
單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的真空鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。該單靶直流磁控濺射鍍膜儀 1500W用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜等
詳情介紹:
TN-MSP300S-DC 單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來(lái)實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。

鍍膜儀具有一路高精度質(zhì)量流量計(jì),客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計(jì)的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標(biāo)配先進(jìn)的渦輪分子泵組,極限真空可達(dá)10E-5Pa,同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購(gòu)。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制,可以實(shí)現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開(kāi)腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制,在電腦程序上可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。

用途:用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。


名稱
TN-MSP300S-DC
型號(hào)
單靶直流磁控濺射鍍膜儀
特點(diǎn)
  • 自主研發(fā)、高性價(jià)比
  • 標(biāo)準(zhǔn)尺寸磁控濺射頭,1英寸2英寸3英寸可選
  • 大功率直流電源,高能量金屬濺射鍍膜
  • 兩路高精度質(zhì)量流量計(jì)
  • 渦輪分子泵組,極限真空可達(dá)10E-5Pa
  • 一體機(jī) 電腦智能編程控制
參數(shù)
  1. 1、樣品臺(tái):尺寸φ150mm;  加熱溫度 maxtemp:500℃;控溫精度:±1℃;轉(zhuǎn)速:1-20rpm可調(diào)
  2. 2、磁控濺射頭:2” ×1 (1”,2”,3”可選)10L/min流速的循環(huán)水冷 
  3. 3、真空腔體:尺寸:φ300mm × 340mm 材料:不銹鋼、上頂開(kāi)式, 觀察窗口:φ100mm
  4. 4、質(zhì)量流量計(jì):1路;量程1200SCCM(可根據(jù)客戶需要定制多路氣路)
  5. 5、真空系統(tǒng):配有一套分子泵系統(tǒng),抽速600L/S
  6. 6、真空測(cè)量:復(fù)合真空計(jì)
  7. 7、膜厚儀 石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái),分辨率0.10 ?
  8. 8、濺射電源:直流電源 ×1;max輸出功率500W~1500W 可選
規(guī)格
尺寸:1090mm × 900mm × 1250mm;重量:350kg ;電壓:AC220V,50Hz;功率:6KW


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