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三溫區(qū)三通道CVD混洗系統(tǒng) TN-OTF-1200X-80-3F是一款CE認(rèn)證的三溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)，其管徑為80mm，采用機(jī)械泵，它是由管式爐，...
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等離子增強(qiáng)型CVD系統(tǒng) TN-O1200-50IS-PECVD是一款等離子增強(qiáng)型CVD系統(tǒng)。此系統(tǒng)由150W射頻電源、單溫區(qū)管式爐、3通道質(zhì)子流...
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四路質(zhì)子混氣管式pecvd... 等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)是借助于輝光放電（等離子體）使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實現(xiàn)薄...
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CVD系統(tǒng) 該套CVD系統(tǒng)主要由：材料加熱、真空獲取、氣體測量和等離子發(fā)生器四大部分構(gòu)成?？梢詽M足日常的大多數(shù)CVD實驗和各種科研要...
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PECVD石墨烯薄膜制備系... PECVD石墨烯薄膜制備系統(tǒng)借助13.56MHz的射頻輸出等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在真空腔體內(nèi)形成等離子體，利用...
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三溫區(qū)CVD氣相沉積系統(tǒng) 該三溫區(qū)CVD氣相沉積系統(tǒng)主要用于真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)性燒結(jié)、真空鍍膜 各種材料煅燒、需要溫度梯度的各種CVD實驗
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迷你石墨烯CVD實驗室設(shè)備 迷你石墨烯CVD實驗室設(shè)備采用1200℃迷你管式爐，功能齊全占地面積較小，迷你石墨烯CVD實驗室設(shè)備專為石墨烯生產(chǎn)設(shè)計。